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高精細化・高機能化するディスプレイ、半導体、電子部品マーケットに対し、各種製造プロセスで使用される薬液の開発・製造・販売を行っております。独自の開発力を武器に他社にない優れた性能を有する製品ラインナップを有しており、エレクトロニクス産業全体の発展に貢献しています。
ディスプレイ用カラーフィルター向けの現像液をはじめ、基板ガラス洗浄剤、様々な金属配線に対応したレジスト剥離液をランナップしています。
| 商品名 | 種類 | 使用方法 | 特徴 |
|---|---|---|---|
| NK disperse HA | CF現像液 | 希釈 | 一般的な無機アルカリベースのCF現像液 |
| NK disperse DX | CF現像液 | 希釈 | COAに対応した有機アルカリベースのCF現像液 |
| NK poleve 117 | レジスト剥離液 | 希釈 | Cu防食を有した有機アルカリ剥離液 |
| NK E-cleaner S TKA | ガラス洗浄剤 | 希釈 | 有機アルカリベースのガラス洗浄剤 |
※上記一覧にない製品につきましても、直接お問い合わせください。
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高精細なフォトリソグラフィプロセスに対応した、各種現像液、剥離液をランナップしています。その他にも、WLPプロセスで用いられる厚膜ネガレジストやドライフィルムレジスト用剥離液、ドライエッチング残渣除去液などもラインナップしております。各種法規制に対応した製品、NMP非含有製品など環境に配慮した薬液をご提案可能です。
| 商品名 | 種類 | 法令 | 対応金属 | 特徴 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 毒劇物 | 危険物 | Al | Cu | |||
| NK disperse UT シリーズ | 現像液 | 毒物 | ― | 〇 | 〇 | 金属防食、微細加工など様々な特徴をもつ現像液シリーズ |
| NK poleve 517 | レジスト剥離液 | ― | ― | 〇 | 〇 | 汎用レジスト剥離液 |
| NK poleve 496 | レジスト剥離液 | ― | ― | 〇 | 〇 | 変質したレジスト（Boshプロセス、TSVプロセスなど）にも対応した高性能剥離液 |
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サンプル構造
処理前
25℃／5min 浸漬後
電子部品のフラックス等の洗浄に用いられる各種洗浄剤をラインナップしています。フッ素、塩素などのハロゲン系溶剤を一切含有しない、地球環境に配慮した洗浄剤です。フラックスの洗浄並びに脱脂用洗浄など様々な用途に適した洗浄剤をご提案可能です。
| 商品名 | 種類 | 法令 | 特徴 |
|---|---|---|---|
| 危険物 | |||
| NK E-cleaner SO RF | 汎用洗浄剤 | 第4類第2石 | 様々な用途の有機物汚れに対応した洗浄剤 |
| NK E-cleaner SO C175 | フラックス洗浄剤 | 第4類第2石 | フラックスへの高い溶解性を持つ洗浄剤 |
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